- 英特爾：ASML首批兩臺(tái)High-NAEUV設(shè)備已投產(chǎn)
- 可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布超級(jí)EUV光刻機(jī)：但死胡同也不遠(yuǎn)了
- 我們彎道超車的機(jī)會(huì)來了，EUV光刻機(jī)，有了新技術(shù)，更先進(jìn)
- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時(shí)，才要換EUV光刻機(jī)
- ASML要慌：EUV光刻機(jī)新光源出現(xiàn)，成本降50%，功耗降80%
- 中國芯的好消息：EUV光刻機(jī)沒有下一代，芯片工藝達(dá)到極限
- 臺(tái)積電認(rèn)慫，還是要買ASML新EUV光刻機(jī)，30億1臺(tái)也得買
- 臺(tái)積電認(rèn)栽了，將購買2納米EUV光刻機(jī)，不然搞不定2納米工藝
- ASML：中國HW/SMEE造不出EUV光刻機(jī)，不擔(dān)心競爭
- 阿斯麥和IMEC聯(lián)合光刻實(shí)驗(yàn)室啟用：最早2025年大量生產(chǎn)High NA EUV
