ASML:中國HW/SMEE造不出EUV光刻機,不擔(dān)心競爭
眾所周知,當(dāng)芯片工藝進入7nm時,還不一定需要EUV光刻機,通過DUV光刻機,進行多重曝光,也是可以生產(chǎn)的,只是效率稍低一點,成本稍高一點,勉強能夠接受。
但進入5nm時,就需要EUV光刻機了,因為如果繼續(xù)用DUV進行多重曝光來生產(chǎn),理論上也可以生產(chǎn),但相對應(yīng)的,工藝會非常復(fù)雜,良率會低到嚇人,那么成本也就高的可怕,這樣的芯片是無法大規(guī)模生產(chǎn)的,成本高到?jīng)]法商用。
所以,這也是為何前幾天華為董事說我們拿不到5nm芯片、3nm芯片,能搞定7nm芯片就很好了的原因,因為目前中國大陸無法買到EUV光刻機,目前也沒有擁有任何EUV光刻機。
甚至全球也只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機,連日本尼康、佳能也一要無法生產(chǎn)EUV光刻機,ASML的市場份額高達100%。
在這樣的情況之下,我們該怎么辦?當(dāng)然是沒有任何捷徑,沒有任何退路,只有自研EUV光刻機才行,否則就會一直卡在7nm工藝上,看著臺積電、intel、三星們進入3nm、2nm、1nm,這當(dāng)然不行啊。
那么中國什么時候會造出EUV光刻機,會不會威脅到ASML呢?畢竟如果中國造出了EUV,那么ASML的超然地位就不存在了。
而針對這個問題,近日ASML首席財務(wù)官Roger Dassen在會議上表示,“在可預(yù)見的未來”,其在 EUV 技術(shù)領(lǐng)域不會面臨來自中國企業(yè)的競爭,甚至還單獨提了兩家公司,比如光刻設(shè)備公司 SMEE或HW的競爭。
當(dāng)然,這個可預(yù)見的未來是多久,ASML不會說,但其話里的意思大家懂的,那就是很長很長一段時間之內(nèi),都不行。
估計很多人看了會不服,意思就是我們怎么就不行了呢,但說真的,確實很長一段時間之內(nèi),我們還真不行。
EUV光刻機非常復(fù)雜,全球有5000多家供應(yīng)商,之前一直說有10萬多個零件,但其實真正的數(shù)據(jù)是有45萬多套零件,這個套其實已經(jīng)是融合過的。
如果要單獨再拆開,最終可以仔細拆分成300多萬個零件,這些零件有一些全球僅一家能夠制造/生產(chǎn),而這樣的廠商,很多都和ASML有獨家協(xié)議的。
比如蔡司的物鏡系統(tǒng)等,這些我們是無法復(fù)制,模仿的,如果我們想要造出EUV光刻機,要么將這些供應(yīng)鏈整合起來,要么自己的產(chǎn)業(yè)鏈全部跟上造出來。
不管是整合這些供應(yīng)鏈,不審自己造出來,都是不是三、五年能夠搞定的,所以這也是為何ASML說可以預(yù)見的未來,中國的EUV光刻機,都無法和ASML競爭的原因,是真的不行。
所以大家也不要氣憤,沒有意義,還是埋頭苦干吧,不說EUV,先把浸潤式光刻機造出來再說,別好高騖遠。
