22日訊，荷蘭光刻機(jī)設(shè)備生產(chǎn)商阿斯麥（ASML）此前公布了 2021 年第二季度財(cái)報(bào)。此外，ASML方面表示，EUV (極紫外光) 光刻業(yè)務(wù): 第一臺(tái)NXE:3600D已出貨給客戶。相較于前一代產(chǎn)品，NXE:3600D的生產(chǎn)力提高15%到20%，且套刻精度(overlay)也提高 30%。ASML正增加EUV在存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)的量產(chǎn)應(yīng)用，并將計(jì)劃協(xié)助三個(gè) DRAM 客戶實(shí)現(xiàn)在未來(lái)的制程節(jié)點(diǎn)中導(dǎo)入EUV。

ASML 正努力增加 EUV 在存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)的量產(chǎn)應(yīng)用，并將計(jì)劃協(xié)助三個(gè) DRAM 客戶實(shí)現(xiàn)在未來(lái)的制程節(jié)點(diǎn)中導(dǎo)入 EUV。在其 DUV 業(yè)務(wù)中，TWINSCAN NXT:2000i（一種 ArFi 浸入式系統(tǒng)）創(chuàng)下了單日在客戶處曝光 6,300 多片晶圓的記錄。