目前全球唯一能夠制造EUV光刻機(jī)的廠商，只有荷蘭的ASML。

而芯片進(jìn)入7nm之后，就需要用到EUV光刻機(jī)，所以過去的這幾年，臺(tái)積電、三星、intel等廠商，都是想方設(shè)法從ASML那搶購EUV光刻機(jī)。

誰搶到的EUV光刻機(jī)多，產(chǎn)能就高，那么接下來的訂單，產(chǎn)能基本上就穩(wěn)了。

之前占上風(fēng)的當(dāng)然是臺(tái)積電，數(shù)據(jù)顯示，自ASML生產(chǎn)EUV光刻機(jī)以來，截止至2023年底，一共出貨EUV光刻機(jī)僅230多臺(tái)。

而這230多臺(tái)EUV光刻機(jī)中，臺(tái)積電一家就占了超過50%，另外所有廠商合計(jì)一共，還不到50%，可見臺(tái)積電有多厲害了。

不過，近日情況可能有變化了，因?yàn)锳SML最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，用于2nm芯片制造的Twinscan EXE：5200，被ASML交付給了英特爾，而不是臺(tái)積電了。

這臺(tái)EXE：5200與之前的EXE:5000相比，最大的不同是數(shù)值孔徑不同，從0.33NA提升至0.55NA，數(shù)值孔徑代表的是系統(tǒng)可以收集和聚焦多少的光，數(shù)值孔徑越大，收集的光越多，分辨率也可以做到更高。所以0.55NA的數(shù)值孔徑光刻機(jī)，可以用于2nm，甚至1.4nm芯片光刻。

之前ASML的CEO就表示稱，在0.55NA之后，也就是NXE:5200之后，ASML可能再無法推出新一代的EUV光刻機(jī)，這一塊的技術(shù)達(dá)到極限了。

這一臺(tái)NXE:5200的價(jià)格大約是3億美元，約合人民幣21.5億元，晶圓處理速度是220片12寸晶圓每小時(shí)，一塊晶圓可以切割其次有2nm芯片500塊左右，理論上一臺(tái)這樣的光刻機(jī)，一年可以就處理幾億顆芯片。

ASML將其交給了英特爾，而不是臺(tái)積電，有人稱很可能是臺(tái)積電目前并不需要，英特爾更需要，但我覺得這個(gè)理由，應(yīng)該不成立，臺(tái)積電肯定需要的。

很大的可能是，英特爾背后的美國施壓，畢竟美國現(xiàn)在想重振芯片制造產(chǎn)業(yè)，英特爾更是提出IDM2.0計(jì)劃，想要在芯片代工上分一杯羹，ASML必須得聽美國的，給誰不給誰，ASML說了不算，美國說了算。

英特爾之前吹牛稱，要在2024年搞定20A工藝，也就是2nm，而臺(tái)積電要到2025年才搞定2nm，所以英特爾想領(lǐng)先，所以搶到了第一臺(tái)2nm光刻機(jī)。

接下來，臺(tái)積電要加油了，如果真在2nm時(shí)，被intel搶先了，那么全球芯片代工格局，有可能被改寫了。