日前國內(nèi)一家科技企業(yè)表示它已實(shí)現(xiàn)14納米工藝的純國產(chǎn)，這意味著國內(nèi)的芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈已達(dá)到14納米，光刻機(jī)問題估計(jì)已得到解決，如此對于中國的芯片制造這個大難題或許也已取得了重大突破。

該科技企業(yè)指出它已實(shí)現(xiàn)了14納米工藝以上的純國產(chǎn)，即是采用國產(chǎn)的EDA軟件設(shè)計(jì)芯片，然后以國產(chǎn)的芯片制造工藝生產(chǎn)芯片，從而徹底擺脫了美國技術(shù)，這是一個巨大的系統(tǒng)工程。

此前EDA軟件幾乎被美國壟斷，美國三大EDA企業(yè)占有全球EDA軟件市場八成以上的份額，美國也以此限制中國芯片，限制美國的EDA軟件企業(yè)為中國芯片提供先進(jìn)的EDA軟件，如今中國已量產(chǎn)的14納米工藝將無需再依賴美國EDA軟件了。

至于14納米工藝，此前無法實(shí)現(xiàn)純國產(chǎn)，關(guān)鍵就在于光刻機(jī)，其他芯片制造環(huán)節(jié)都已達(dá)到了14納米，而國產(chǎn)的光刻機(jī)企業(yè)早就已在28納米浸潤式光刻機(jī)上取得了進(jìn)展，如今應(yīng)該已投入生產(chǎn)。

28納米浸潤式光刻機(jī)可謂先進(jìn)光刻機(jī)的重要門檻，從28納米到7納米工藝都可以浸潤式光刻機(jī)生產(chǎn)，技術(shù)基本是相通的，28納米浸潤式光刻機(jī)投產(chǎn)，接下來解決14納米光刻機(jī)、7納米光刻機(jī)都將加快研發(fā)，如此國產(chǎn)的7納米工藝量產(chǎn)就有了希望。當(dāng)然以這個技術(shù)生產(chǎn)的7納米與采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)的7納米還有些差距，但是已能滿足國內(nèi)九成的芯片需求。

目前國內(nèi)生產(chǎn)的芯片大多數(shù)都是28納米以上工藝，這已能滿足國內(nèi)七成的芯片需求，其實(shí)全球芯片有七成以上的芯片都是以成熟工藝生產(chǎn)的芯片，諸如汽車、家電、電視等產(chǎn)品都可以用28納米以上工藝生產(chǎn)的芯片，而且可靠性更高、成本更低。

中國芯片已成熟工藝生產(chǎn)已具有較強(qiáng)的競爭力，2022年上半年中國的芯片出口量增加了兩成多，甚至占領(lǐng)擁有強(qiáng)大芯片優(yōu)勢的美國，美國家電制造商就表示離不開中國芯片，最終迫使美國修改了芯片規(guī)則，凸顯出中國芯片即使采用成熟工藝依然擁有獨(dú)特的優(yōu)勢。

如果中國芯片解決14納米乃至7納米工藝的國產(chǎn)化問題，中國芯片的競爭力將更強(qiáng)，因?yàn)橹袊酒诔杀痉矫鎯?yōu)勢明顯，以成熟工藝生產(chǎn)的芯片，價格只有美國芯片的四分之一，如果在芯片工藝方面的差距進(jìn)一步減小，必然會進(jìn)一步壓制美國芯片。

事實(shí)上從去年以來，全球芯片市場對7納米以下的芯片需求已出現(xiàn)減少的跡象，臺積電的7納米EUV工藝產(chǎn)能利用率暴跌五成、5納米工藝出現(xiàn)產(chǎn)能利用率不足的問題，原因就是先進(jìn)工藝成本太高了，在全球各個行業(yè)都處于衰退的情況下，企業(yè)更看重成本，如此更是為中國芯片提供了發(fā)展的機(jī)會。

美國富豪比爾蓋茨一直都強(qiáng)調(diào)美國限制中國芯片無法阻止中國發(fā)展先進(jìn)芯片技術(shù)，如今中國芯片在14納米乃至更先進(jìn)的7納米都取得進(jìn)展，印證了比爾蓋茨的預(yù)言，相反美國芯片卻因此蒙受了巨額的損失，2022年美國芯片的營收普遍出現(xiàn)了下滑，大舉裁員，僅是Intel就已裁員過萬人，美國的做法讓美國芯片陷入了困境之中。