最近，有網(wǎng)友留言給我稱，目前美國與臺積電是一伙的，芯片工藝達到了3nm，而中芯國際僅14nm，相差很大，如果一旦發(fā)生戰(zhàn)爭，豈不是武器會落后很多？因為一個用3nm芯片，一個用14nm芯片，芯片工藝越先進，性能越強，武器就會厲害啊。

說真的，這樣的疑問，很多人可能都會有，因為以往這些晶圓廠，都是宣稱先進工藝，能帶來更高性能，更低功耗……

但是，這一般只是針對消費級芯片而言。

比如3nm的手機芯片，確實比14nm的手機芯片要強，不信你拿蘋果A15和蘋果A9比，A15直接碾壓A9。

為何要提升芯片的工藝，原因是工藝提升后，同樣體積大小的芯片，性能更高，功耗更低，大家注意下這個前提條件，同樣體積下。

芯片的性能，其實最終由里面晶體管的多少決定的，一個晶體管代表著一個邏輯開關(guān)，邏輯開關(guān)越多，性能就更強。

如果不考慮芯片體積，20nm的芯片，只要塞進去比3nm更多的晶體管，那么20nm的芯片，其性能能超過3nm的芯片，但這樣的20nm的芯片，其體積會比3nm的芯片大很多。

所以，工藝并不是決定性能的唯一標準，只是在手機中，由于內(nèi)部空間有限，所以需要體積小，性能強，才不斷的升級工藝。

軍工級產(chǎn)品，其實并不那么在乎體積，真要實現(xiàn)高性能，拿20nm，甚至40nm工藝，把芯片做大了，一樣可以實現(xiàn)高性能的，這一點大家不必擔心。

事實上，軍工武器需要的芯片，并不追求性能，追求的是穩(wěn)定，可靠。

軍工武器中，使用的需要綜合算力的CPU、Soc這樣的通用芯片其實很少的，更多的是ASIC、FPGA、ASSP這樣的的專業(yè)芯片。

這些芯片專注于執(zhí)行某一項指令，并不需要多么高的性能，只要穩(wěn)定可靠就行了，而實驗表示，工藝越先進的芯片，其穩(wěn)定性越差，工藝越落后的芯片，穩(wěn)定性其實更好，不信大家看看月球車，為了穩(wěn)定，還在使用130nm的芯片。

從全球的情況來看，目前絕大部分的軍工武器、戰(zhàn)斗機中，都在使用65nm、90nm這樣的芯片，比如俄烏沖突中，大量使用的武器、飛機、坦克的芯片，都是90nm、65nm級別的。

所以大家根本就不需要擔心因為芯片工藝問題，使得我們在軍工武器上也落后，不存在的。

另外還告訴大家一個秘密，我們雖然沒有EUV光刻機，但其實我們有另外一個類型的設備——電子束曝光機，它的功能其實跟光刻機很像，通過高能電子束進行曝光，來制造芯片，它的加工精度可以達到10納米以下，國內(nèi)有這個設備的，目前國內(nèi)的先進制程的超導量子芯片，就用這樣的機器生產(chǎn)出來的。

只是它的效率很低，所以無法大規(guī)模生產(chǎn)芯片，但是少量生產(chǎn)其實沒什么問題的，軍工武器是不計成本的，且不會大量生產(chǎn)的，所以就算真要生產(chǎn)10nm以下的芯片，也是可以實現(xiàn)的，不用擔心。