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DRAM制程失速,全球存儲(chǔ)市場(chǎng)在競(jìng)爭(zhēng)什么?

2023-02-16 來(lái)源:全球半導(dǎo)體觀察&半導(dǎo)體行業(yè)觀察
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關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 DRAM 芯片 SK海力士

近期由于半導(dǎo)體實(shí)況低迷,DRAM價(jià)格一路走低,像三星和SK海力士這樣的內(nèi)存芯片大廠苦不堪言,后者2022年第四季度的財(cái)務(wù)報(bào)表顯示,甚至?xí)r隔十年再次出現(xiàn)單個(gè)季度虧損。


不過(guò)最近ChatGPT在全球范圍內(nèi)掀起了一股熱潮,這款人工智能工具在推出后,受到了不少人的關(guān)注。英偉達(dá)創(chuàng)始人兼CEO黃仁勛先生在近期的演講中表示,ChatGPT是人工智能領(lǐng)域的iPhone時(shí)刻,也是計(jì)算領(lǐng)域有史以來(lái)最偉大的技術(shù)之一。

事實(shí)上,ChatGPT的出現(xiàn)似乎給存儲(chǔ)器制造商帶來(lái)了轉(zhuǎn)機(jī)。據(jù)Business Korea報(bào)道,今年年初以來(lái),三星和SK海力士的HBM訂單量激增,價(jià)格也水漲船高,給低迷的DRAM市場(chǎng)注入了一絲活力。




DRAM縮放速度放緩

對(duì)DRAM芯片來(lái)說(shuō),隨著晶體管尺寸越來(lái)越小,芯片上集成的晶體管就越多,也就代表一片芯片能實(shí)現(xiàn)更高的內(nèi)存容量。

從DRAM三巨頭工藝尺寸的發(fā)展歷程來(lái)看,三星、SK海力士、美光在2016-2017年進(jìn)入1X(16nm-19nm)階段,2018-2019年為1Y(14nm-16nm),2020年處于1Z(12nm-14nm)時(shí)代。后續(xù),行業(yè)廠商朝著1α、1β、1γ等技術(shù)階段繼續(xù)邁進(jìn)。

目前,各大廠家繼續(xù)向10nm逼近,目前最新的1α節(jié)點(diǎn)仍處于10+nm階段。

2022年10月,三星在Samsung Foundry Forum 2022活動(dòng)上公布DRAM技術(shù)路線圖,預(yù)計(jì)2023年進(jìn)入1β工藝階段,即第五代10nm級(jí)別DRAM產(chǎn)品。同年12月,三星開(kāi)發(fā)出首款采用12nm級(jí)工藝技術(shù)打造的16Gb DDR5 DRAM。

2022年11月,美光將1β DRAM產(chǎn)品送往客戶的產(chǎn)品驗(yàn)證流水線,率先進(jìn)入了1β節(jié)點(diǎn),這意味著將DRAM芯片的晶體管工藝又向精密處推進(jìn)一步,來(lái)到了10納米級(jí)別的第五代。且正在對(duì)下一代1γ工藝進(jìn)行初步的研發(fā)設(shè)計(jì)。

DRAM工藝制程演進(jìn)至10+nm,繼續(xù)向10nm逼近。

近日,TechInsights高級(jí)技術(shù)研究員Jeongdong Choe博士在一場(chǎng)內(nèi)存網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)中表示,DRAM單元縮小到10nm的設(shè)計(jì)規(guī)則 (D/R) 一直在進(jìn)行中。主要的DRAM廠商一直在開(kāi)發(fā)下一代,這意味著DRAM單元D/R可能會(huì)進(jìn)一步縮小到個(gè)位數(shù)納米時(shí)代。

然而,從DDR1到DDR5的演變來(lái)看,DDR的能耗越來(lái)越低,傳輸速度越來(lái)越快、存儲(chǔ)容量也越來(lái)越大;而從制程工藝的進(jìn)展來(lái)看,早前產(chǎn)品的更新時(shí)間大致在3到5年更新一代。在步入20nm以內(nèi)的制程后,DRAM在制程上的突破進(jìn)展呈現(xiàn)放緩趨勢(shì)。

尤其是隨著10nm制程的臨近,使其在晶圓上定義電路圖案已經(jīng)接近基本物理定律的極限。由于工藝完整性、成本、單元泄漏、電容、刷新管理和傳感裕度等方面的挑戰(zhàn),DRAM存儲(chǔ)單元的縮放正在放緩。

此外,從當(dāng)前技術(shù)看,6F2 DRAM單元是存儲(chǔ)行業(yè)的設(shè)計(jì)主流,cell由1T+1C(1晶體管+1電容)構(gòu)成——這種DRAM單元結(jié)構(gòu)將在未來(lái)幾代產(chǎn)品上延續(xù)。但如果存儲(chǔ)廠商保持6F2 DRAM單元設(shè)計(jì)以及1T+1C結(jié)構(gòu),2027年或2028年10nm D/R將是DRAM的最后一個(gè)節(jié)點(diǎn)。




先進(jìn)制程競(jìng)賽持續(xù)

DRAM是半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的大宗產(chǎn)品之一,經(jīng)過(guò)幾十年的大浪淘沙,英特爾、東芝、松下、德州儀器、IBM、Motorola等曾經(jīng)的強(qiáng)者退出DRAM江湖,如今DRAM市場(chǎng)形成了三足鼎立的格局,主要由三星、SK海力士、美光三大巨頭所領(lǐng)導(dǎo)。

據(jù)TrendForce集邦咨詢2022年11月16日研究顯示,截止2022年第三季度,在DRAM市場(chǎng)中,三星份額為40.7%,仍占據(jù)全球第一,SK海力士為28.8%,排位第二,美光為26.4%,居第三。

在DRAM先進(jìn)制程競(jìng)賽道上,存儲(chǔ)大廠為搶占技術(shù)先機(jī),也是一刻也不停緩。

美光方面,2022年11月初,美光已經(jīng)將1β DRAM(第五代10nm級(jí)別DRAM)產(chǎn)品送往了客戶的產(chǎn)品驗(yàn)證流水線,這也意味著10納米級(jí)別的芯片工藝已經(jīng)來(lái)到了第五代。相較于1α(alpha),1β(beta)在16G bit的容量下,能效提高約15%、內(nèi)存密度提升35%以上。

同年11月中旬,美光尖端存儲(chǔ)器1β DRAM在日本廣島量產(chǎn)。美光日本廣島工廠一直致力于尖端技術(shù)產(chǎn)品DRAM的生產(chǎn),目前,該廠投產(chǎn)制程主要為1Z納米(占比50%以上)和1Y納米(占比約35%)。

美光DRAM制程已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了1Xnm、1Ynm、1Znm、1α四個(gè)節(jié)點(diǎn),并率先進(jìn)入了1β節(jié)點(diǎn)。據(jù)悉,美光正在對(duì)下一代1γ(gamma)工藝進(jìn)行初步的研發(fā)設(shè)計(jì)。

三星方面,2022年10月,三星在Samsung Foundry Forum 2022活動(dòng)上公布DRAM技術(shù)路線圖。根據(jù)路線圖,三星預(yù)計(jì),2023年進(jìn)入1b nm工藝階段,即第五代10nm級(jí)別DRAM產(chǎn)品,芯片容量將達(dá)到 24Gb(3GB)- 32Gb(4GB),原生速度將在6.4-7.2Gbp之間。

同年12月,三星開(kāi)發(fā)出首款采用12nm級(jí)工藝技術(shù)打造的16Gb DDR5 DRAM,并與AMD一起完成了兼容性方面的產(chǎn)品評(píng)估。

自此來(lái)看,業(yè)界表示,10納米級(jí)別的DRAM制程經(jīng)過(guò)了依次為1X(16nm-19nm)、1Y((14nm-16nm))、1Z(12nm-14nm)、1α(約13nm),目前來(lái)到1β(10-12nm)、1γ(約10nm,1β的增強(qiáng)版)的節(jié)點(diǎn)。

對(duì)DRAM芯片來(lái)說(shuō),隨著晶體管尺寸越來(lái)越小,芯片上集中的晶體管就越多,也就是說(shuō)一片芯片能實(shí)現(xiàn)更高的內(nèi)存容量。

而從產(chǎn)品價(jià)格上看,去年以來(lái),DRAM價(jià)格持續(xù)下跌。據(jù)TrendForce集邦咨詢1月9日研究指出,由于消費(fèi)需求疲弱,存儲(chǔ)器賣(mài)方庫(kù)存壓力持續(xù),僅三星(Samsung)在競(jìng)價(jià)策略下庫(kù)存略降。為避免DRAM產(chǎn)品再大幅跌價(jià),諸如美光(Micron)等多家供應(yīng)商已開(kāi)始積極減產(chǎn),預(yù)估2023年第一季DRAM價(jià)格跌幅可因此收斂至13~18%,但仍不見(jiàn)下行周期的終點(diǎn)。


寫(xiě)在最后

面對(duì)DRAM市場(chǎng)的蕭條,行業(yè)廠商唯有持續(xù)研發(fā)推出1β、1γ...或更先進(jìn)制程的DRAM產(chǎn)品,以創(chuàng)新技術(shù)在逆境中站穩(wěn)腳跟。

除了上述提到的High-k介電材料、HKMG、柱狀電容器、EUV技術(shù)及3D DRAM之外,研究者們也開(kāi)始在鐵電材料電容器、無(wú)電容DRAM等方面下功夫,試圖借此解決DRAM芯片當(dāng)前的難題。

總體而言,無(wú)論是哪種方法均遵循著兩種路徑,要么是在先進(jìn)制程上下功夫,要么是在先進(jìn)封裝上苦心鉆研。兩條路徑相輔相成,缺一不可。