一臺EUV光刻機,年耗電1000萬度,臺積電也要心痛電費
關(guān)鍵詞: 光刻機 半導(dǎo)體設(shè)備 集成電路 臺積電
在絕大多數(shù)人的認(rèn)知中,決定芯片工藝的,是EUV光刻機,是技術(shù),畢竟7nm及以下工藝,必須要用EUV光刻機,如果ASML不賣給你,就“巧婦難為無米之炊”。
但大家有沒有想過,電力其實也是半導(dǎo)體競爭的重要一環(huán)?如果供電跟不上,空有EUV光刻機,空有技術(shù),也沒戲。
EUV有多耗電?由于EUV光源的能源轉(zhuǎn)換效率只有 0.02% 左右,所以輸出功率只有250W的EUV光刻機,實際需要0.125萬千瓦的電力,耗電量是DUV光刻機的10倍以上。
這樣下來,一臺EUV一年耗電量可達(dá)到1000萬千瓦時。更重要的是,EUV光源能量轉(zhuǎn)換率為0.02%,另外的99.98%電能會變成熱量散發(fā)出去,又需要大量的設(shè)備來降溫散熱,這又要耗電。
臺積電的數(shù)據(jù)顯示,2021年能源消耗量為191.9億度,約占臺灣的7.2%。而深圳有1800萬深住人口,2021年居民用電量也僅為165.5億度左右,這就是說臺積電的耗電量,可以讓深圳的居民用一年。
而臺積電2021年擁有EUV光刻機近80臺,這80臺EUV光刻機直接用電8億度,再加上間接用量(散熱等設(shè)備),僅光刻機相關(guān)用量就超過10億度,占到這191.9億度電的5%+。
考慮到臺積電還在不斷的推進(jìn)5nm、3nm,需要更多的EUV光刻機,未來這個耗電量還會增加。
所以目前臺灣省內(nèi)很多媒體,對臺積電也不太滿,覺得島內(nèi)對臺積電扶植過度了,畢竟臺灣省幅員狹小、能源有限,而臺積電高耗電、高耗水量,對居民用電、電水造成了緊張。
同時目前臺灣省本身資源緊張,電力供應(yīng)緊張,新增的電量,很多往臺積電傾斜了,還未必能夠滿足臺積電未來產(chǎn)能擴張的需求,讓大家對未來擔(dān)憂。
為此,臺積電也在努力想辦法,比如自己去買電廠,解決供電問題,還直接與一些電站簽訂采購合同,確保電力供應(yīng),甚至還不得不將產(chǎn)能轉(zhuǎn)移至美國等地,緩解供電危機,但一年190多億度電,需要100多億元的電費,讓臺積電也是很頭痛。
并且很明顯,未來隨著工藝越來越先進(jìn),EUV光刻機越來越多,耗電量越來越大,電力也會成為半導(dǎo)體的競爭力了……電力供應(yīng)跟不上,半導(dǎo)體產(chǎn)能和競爭力也會受影響。
