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2022年中國濺射靶材產業(yè)鏈上中下游市場分析(附產業(yè)鏈全景圖)

2022-10-31 來源:中商產業(yè)研究院
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關鍵詞: 濺射靶材

中商情報網訊:濺射靶材是電子及信息產業(yè)、液晶顯示器、光學等行業(yè)必不可少的原材料。隨著全球半導體行業(yè)景氣度向上,晶圓廠資本開支持續(xù)走高,以高純靶材為代表的半導體材料需求持續(xù)旺盛。


一、產業(yè)鏈

中國濺射靶材上游為各種原材料,包括金屬、合金、陶瓷化合物;中游主要為靶材制造、濺射鍍膜;下游廣泛應用于半導體芯片、平面顯示、信息存儲、太陽能電池、智能玻璃等。

資料來源:中商產業(yè)研究院整理


中國濺射靶材產業(yè)鏈上游金屬上市企業(yè)包括新疆眾和、天山鋁業(yè)、銅陵有色、安寧股份、中環(huán)股份等,合金企業(yè)包括江贛鋒鋰業(yè)、興業(yè)礦業(yè)、浙富控股、廈門鉤業(yè)、寒銳鉆業(yè)等。


中游的濺射靶材企業(yè)主要為日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、有研新材、金鉬股份、新疆眾和、隆華科技、江豐電子、康達新材、阿石創(chuàng)、超卓航科等。


下游集成電路企業(yè)包括中芯國際、長電科技、韋爾股份、通富微電、華天科技等,太陽能電池企業(yè)包括通威股份、隆基綠能、天合光能、晶科能源、TCL中環(huán)等。

資料來源:中商產業(yè)研究院整理


二、上游分析

1.鋁

2021年國內共生產高純鋁14.6萬噸,同比增長9.77%,根據數(shù)據統(tǒng)計,2016年中國的高純鋁產量為11.8萬噸,2020年增至13.3萬噸,年均復合增長率為3.0%。2021年全球經濟復蘇疊加新能源汽車需求爆發(fā),下游需求旺盛,高純鋁產量再創(chuàng)新高。預計2022年高純鋁產量將繼續(xù)保持增長,將達15.4萬噸。

數(shù)據來源:中商產業(yè)研究院整理


2.銅

以純銅或銅合金制成各種形狀包括棒、線、板、帶、條、管、箔等統(tǒng)稱銅材。近年來中國銅材產量整體保持增長趨勢,2022年9月中國銅材產量222.1萬噸,同比增長9.5%;1-9月累計產量1636.6萬噸,同比下降0.5%。

數(shù)據來源:中商產業(yè)研究院整理


3.重點企業(yè)分析

資料來源:中商產業(yè)研究院整理


三、中游分析

1.市場規(guī)模

在經濟快速發(fā)展以及技術創(chuàng)新推動下,我國芯片、光伏高新技術產業(yè)獲得快速發(fā)展,隨著市場需求不斷釋放,濺射靶材行業(yè)規(guī)模將進一步擴大。在應用需求帶動下,我國濺射靶材市場規(guī)模不斷擴大。2021年我國濺射靶材市場規(guī)模達375.8億元,同比增長9.7%。

數(shù)據來源:中商產業(yè)研究院整理


2.高性能濺射靶材

中國高性能濺射靶材行業(yè)在國家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應用領域需求的支撐下,行業(yè)技術不斷突破,產品性能不斷提升,帶動高性能濺射靶材市場規(guī)模不斷擴大。中國高性能濺射靶材市場規(guī)模由2016年的98.9億元增長至2020年的201.5億元,年均復合增長率為19.47%,預計2022年市場規(guī)模將達288.1億元。

數(shù)據來源:中商產業(yè)研究院整理


3.ITO靶材

中國已成為世界上最大的銦靶材需求國。2019年至2021年,我國ITO靶材市場容量從639噸增長到1002噸,年復合增長率為25.22%。未來2-3年內,雖然國內平面顯示行業(yè)的固定資產投資增速將有所放緩,但由于平面顯示行業(yè)存量需求及太陽能光伏電池的增量需求,國內ITO靶材市場容量仍將保持一定幅度的增長。預計2022年能達到1067噸,2024年達到1207噸。

數(shù)據來源:中國光學光電子行業(yè)協(xié)會液晶分會、中商產業(yè)研究院整理


4.競爭格局

全球靶材市場呈寡頭競爭格局,日美在高端濺射靶材領域優(yōu)勢明顯。目前,全球濺射靶材市場主要有四家企業(yè),分別是JX日礦金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯,市場份額分別為30%、20%、20%和10%,合計壟斷了全球80%的市場份額。

數(shù)據來源:中商產業(yè)研究院整理


5.重點企業(yè)分析

資料來源:中商產業(yè)研究院整理


6.企業(yè)熱力分布圖

資料來源:中商產業(yè)研究院整理


四、下游分析

1.下游應用情況

隨著消費電子等終端應用市場的飛速發(fā)展,靶材的市場規(guī)模日益擴大,呈現(xiàn)高速增長的勢頭。濺射靶材下游應用領域廣泛,在平面顯示、信息存儲、光伏電池、半導體芯片等行業(yè)被廣泛應用,占比分別為34%、29%、21%、10%。

數(shù)據來源:中商產業(yè)研究院整理


2.半導體芯片

靶材是磁控濺射沉積薄膜的材料源,目前以金屬材質靶材在半導體芯片行業(yè)中應用最廣泛。半導體芯片用金屬濺射靶材的作用,是給芯片制作傳遞信息的金屬導線。中國集成電路市場規(guī)模由2016年的4336億元增長至2021年的10458億元,年均復合增長率為19.3%,預計2022年市場規(guī)模將達12036億元。

數(shù)據來源:中國半導體行業(yè)協(xié)會、中商產業(yè)研究院整理


3.光伏電池

光伏電池為濺射靶材終端應用領域之一,光伏靶材主要用于制備光伏電池片中所需要的薄膜,制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、ITO靶、AZO靶等,純度要求一般在99.99%以上。中國光伏電池產量由2016年的7681萬千瓦增長至2021年的23405.4萬千瓦,復合年均增長率達24.96%。中商產業(yè)研究院預測,2022年我國光伏電池產量可達27875.3萬千瓦。

數(shù)據來源:國家統(tǒng)計局、中商產業(yè)研究院整理