一個好消息，國產光刻機又有新的重大突破，一項關鍵的核心技術即將被解決，我們距離自己的EUV光刻機又近了一步。也怪不得ASML現(xiàn)在越來越著急了，我們所突破的光刻機技術越來越多，核心技術也有所進展，雖然目前對ASML的并沒有多大威脅。但隨著時間流逝，ASML已經(jīng)感覺到越來越沉重的壓力了。前幾年還在說就算給我們圖紙也造不出來光刻機的ASML，今年卻一反常態(tài)，對我們開始玩起了“傾銷”。數(shù)據(jù)顯示，今年第一季度，ASML向我們出口光刻機數(shù)量21臺，占到其總銷量的34%，我們也首次成為了ASML的最大出貨市場。過去，ASML向DL出貨的光刻機數(shù)量總共也就50多臺，可以說是相當“摳門”。結果今年光是第一季度就出貨21臺，這是想開了？不，無事獻殷勤，必然是沒安好心。ASML向我們出售的都是老舊型號的DUV光刻機，要么是我們能造的，要么是我們很快就能造的那種。ASML選擇這個時候出售，其實就是在變相打壓國產光刻機。除了向我們大量出售DUV光刻機之外，ASML還決定擴大國內的研發(fā)中心，計劃增加200名研發(fā)人員，并還要建造維修中心。這個投資力度說大不大，但說小也不小，實際上就是想憑借自己的優(yōu)勢把國內的光刻機扼殺在搖籃中。雖然ASML試圖在國內找回自己的地位，但是我們對此并不買單，畢竟上過的當已經(jīng)好幾回了。這一次，光刻機自主化勢在必得，國內諸多大學和研究院都在為此而努力。并且，我們已經(jīng)取得了很多的突破，相較于過去，國產光刻機早已今非昔比。隨著時間流失，DUV光刻機對我們而言將不再是挑戰(zhàn)，接下了EUV光刻機才是我們攻克的重點。EUV光刻機是制造業(yè)的皇冠，集合了西方技術結晶，零件達到十萬之多。目前，世界上也只有EUV光刻機。我們要突破EUV光刻機，其三大核心就繞不過去，分別是光學系統(tǒng)、光學鏡頭和雙工作臺系統(tǒng)。而這一次我們突破的正是光學系統(tǒng)的部分。來自港城大學電機工程系的蔡定平教授團隊，在Science Advances發(fā)表了一篇名為《真空紫外非線性超構透鏡》的文章，其中所記載的新型超構透鏡，是我們突破光刻機又一大技術門檻的希望所在。EUV光刻機的光源是極紫外光，所以其實際上叫做極紫外線光刻機。而蔡定平教授團隊研發(fā)的新型真空紫外非線性超構透鏡，能夠產生和聚焦極紫外光，并能夠將波長395nm轉化為197nm 。聚焦光點的功率密度比超構透鏡高了21倍。據(jù)悉，這一突破能夠應用于EUV光刻機之中，幫助國產光刻機突破技術瓶頸。并且，這一技術還屬于EUV光刻機的核心技術，對實現(xiàn)EUV光刻機自主有重大意義。寫在最后：可以發(fā)現(xiàn)，雖然EUV光刻機號稱制造業(yè)的皇冠，但其并不是完全不可突破。至少，我們已經(jīng)突破了很多技術，其中還包括最核心的那部分。“只要功夫深，鐵杵也能磨成針”，相信EUV光刻機自主早晚能夠實現(xiàn)自主。
