IBM攜手東京電子開(kāi)發(fā)出3D芯片堆疊新技術(shù)
根據(jù)外媒報(bào)導(dǎo),IBM與日本半導(dǎo)體設(shè)備大廠東京電子于近日宣布,在3D芯片堆疊方面獲得了新得技術(shù)突破,成功運(yùn)用了一種新技術(shù)將3D芯片堆疊技術(shù)用于的12 吋晶圓上。由于芯片堆疊目前僅用于高階半導(dǎo)體產(chǎn)品,例如高帶寬內(nèi)存(HBM) 的生產(chǎn)。不過(guò),在IBM 與東京電子提出新的技術(shù)之后,有機(jī)會(huì)擴(kuò)大3D芯片堆疊技術(shù)的應(yīng)用。
據(jù)報(bào)導(dǎo)稱,3D芯片堆疊技術(shù)在當(dāng)前被視為延續(xù)摩爾定律(Moore\'s Law) 的利器之一,這使得不少頭部的半導(dǎo)體企業(yè)都在進(jìn)行努力,期望將評(píng)價(jià)芯片制造技術(shù)的指標(biāo)由“每單位面積下的晶體管數(shù)量”,轉(zhuǎn)變?yōu)椤懊繂挝惑w積下的晶體管數(shù)量”。而與一般平面結(jié)構(gòu)的芯片相較,3D芯片堆疊允許多層堆疊,而硅通孔封裝(TSV) 就是3D芯片堆疊技術(shù)當(dāng)中的關(guān)鍵。
IBM 與東京電子新開(kāi)發(fā)的技術(shù),本質(zhì)上是一種將硅芯片連接在一起的新方法。傳統(tǒng)的芯片堆疊需要通過(guò)硅通孔技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn),這可以使得電力向上流入堆疊層,并使兩層串聯(lián)執(zhí)行工作。但是,這需要削減堆疊層的背面,以露出TSV 空間以提供另一層堆疊層透過(guò)TSV 來(lái)連結(jié)。只是,堆疊層中的厚度非常薄,通常僅小于100 微米。這就意味著它們非常的脆弱,所以他們當(dāng)中需要一個(gè)載體來(lái)支撐。
通常這些載體芯片由玻璃制成。所以,借助載體與晶圓鍵合,以確保它可以在生產(chǎn)過(guò)程中不受損壞。完成生產(chǎn)后,使用紫外鐳射去除載體。在某些情況下,也可以繼續(xù)使用載體,但將其進(jìn)行層與層分離需要物理的機(jī)械力來(lái)幫助,這對(duì)于晶圓的完整性可能會(huì)造成風(fēng)險(xiǎn)。
而IBM 與東京電子新開(kāi)發(fā)的技術(shù),將使用紅外線鐳射來(lái)進(jìn)行層與層分離,進(jìn)一步剝離兩個(gè)對(duì)硅通孔的芯片,將能有效的降低破壞晶片完整性的風(fēng)險(xiǎn)。
另外,新技術(shù)也將允許在不使用玻璃載體的情況下堆疊兩個(gè)硅芯片。相反,制造商可以跳過(guò)這一步,直接進(jìn)入硅晶圓跟晶圓連接堆疊的步驟。IBM 表示,該技術(shù)除了不再需要這個(gè)額外步驟來(lái)簡(jiǎn)化流程之外,還有其他優(yōu)勢(shì)。例如,它將有助于消除工具兼容性的問(wèn)題,及降低缺陷的風(fēng)險(xiǎn)之外,還允許對(duì)薄晶圓進(jìn)行線上測(cè)試。IBM 指出,這些優(yōu)勢(shì)將使先進(jìn)的小晶片結(jié)構(gòu)生產(chǎn)變?yōu)楹?jiǎn)易,也使得其技術(shù)可以廣泛的被應(yīng)用。
報(bào)導(dǎo)強(qiáng)調(diào)、自2018 年以來(lái),IBM 和東京電子在該項(xiàng)技術(shù)的研究已經(jīng)有一段時(shí)間了。有鑒于晶圓制造的發(fā)展方向,這可能會(huì)是該產(chǎn)業(yè)的一個(gè)關(guān)鍵發(fā)展。因?yàn)?,隨著節(jié)點(diǎn)尺寸的微縮到2納米以下,封裝和堆疊技術(shù)將成為將繼續(xù)提升芯片性能的一項(xiàng)技術(shù)。比如,處理器大廠英特爾已經(jīng)在發(fā)展使用其Foveros 3D技術(shù)為其Meteor Lake 系列處理器進(jìn)行3D 芯片堆疊設(shè)計(jì)。不過(guò),相較于英特爾,競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手AMD 在這方面更是早已運(yùn)用。然而,到目前為止,AMD 的Zen 3 架構(gòu)的處理器僅在其處理器上堆疊L3 緩存。有傳言表示,AMD 將會(huì)在Zen 4 架構(gòu)的處理器上,以及所謂的Raphael-X 的系列產(chǎn)品中,采用3D 芯片堆疊技術(shù)。有消息顯示,AMD即將推出的RDNA3 GPU 也可能會(huì)采用。
IBM 表示,它已在美國(guó)紐約州建立了一個(gè)新的研發(fā)與測(cè)試據(jù)點(diǎn),用以研究該項(xiàng)新新技術(shù),而且未來(lái)它將擴(kuò)大其規(guī)模。IBM 的目標(biāo)就是使用該技術(shù)創(chuàng)建一個(gè)完整的3D 晶片堆疊。如此,這將有助于解決供應(yīng)鏈問(wèn)題,同時(shí)也可以提高績(jī)效。IBM 預(yù)計(jì)新技術(shù)將能幫助半導(dǎo)體供應(yīng)鏈降低所需生產(chǎn)與使用的產(chǎn)品數(shù)量,同時(shí)也有助于未來(lái)幾年運(yùn)算處理能力的提升。
