日前消息指美國芯片企業(yè)美光已引入日本的納米壓印技術--NIL技術，這對于ASML無疑是一大重擊，ASML此前連連遵從美國的要求，卻換來美國芯片的一再背叛。

這幾年ASML對美國可謂言聽計從，2018年中國一家芯片企業(yè)預支了貨款訂購EUV光刻機，卻由于美國的阻撓一直沒有交貨，從那之后EUV光刻機就再也沒有賣給任何一家中國芯片企業(yè)。

不過由于中國市場的龐大需求--中國加速推進芯片制造的發(fā)展，2021年和2022年Q1中國市場仍然為ASML貢獻了三分之一的收入，超過了韓國和中國臺灣等市場，成為ASML的最大市場。

2022年下半年，美國進一步阻止ASML對中國出售光刻機，可用于7納米的2000i光刻機也被限制對中國出售，ASML照做，由此導致中國市場貢獻的收入占比大跌至10%左右，如此境況一直保持到2023年Q3。

2023年9月ASML突然獲得許可，可對中國出售用于7納米的2000i光刻機，僅是9月份中國采購的光刻機就增加了18倍之多，隨后幾個月都是倍速增長，最終2023年中國市場為ASML貢獻了600億元的收入，占ASML的收入比例高達46%，由此可以看出中國市場的重要性。

2024年ASML又被取消了許可，ASML只能無奈接受，可以說一直以來基本上都是美國說啥，ASML就跟著照做，然而如此順從的結果卻是美國芯片行業(yè)總是背叛ASML。

美光早已研發(fā)了繞開EUV光刻機的1β工藝；2023年日本佳能研發(fā)成功5納米NIL工藝，也無需EUV光刻機，當時全球僅有日本芯片企業(yè)采用了NIL工藝，限制了日本NIL工藝的發(fā)展，但是近期有消息指美光已采用了日本的NIL工藝，這是日本的先進芯片制造工藝再次走出日本市場。

日本光刻機和ASML的糾葛頗深，這么多年下來，全球光刻機市場基本由日本的佳能、尼康和ASML競爭，在2005年之前全球光刻機市場由佳能和尼康占有八成市場，那時候的ASML在飛利浦的照顧下掙扎求生。

臺積電的前技術負責人林本堅研發(fā)成功了浸潤式光刻機技術，日本光刻機行業(yè)看不上而繼續(xù)堅持發(fā)展干式光刻機，ASML卻認為是機會而找上臺積電，由此ASML咸魚翻生，至2008年ASML已占有光刻機市場六成市場份額，日本光刻機產業(yè)開始敗落。

此后美國拉攏多家企業(yè)研發(fā)EUV光刻機技術，研發(fā)成功之后將之交給ASML，目的是為了進一步打壓日本的光刻機產業(yè)，由此在7納米以下的光刻機市場全數由ASML占領，進一步成就了ASML的輝煌。

如此就可以看出，如今美國芯片再次支持日本的NIL技術，讓ASML有多擔憂了。更何況ASML研發(fā)成功2納米EUV光刻機之后，最多三年2納米EUV光刻機就可滿足臺積電、Intel和三星三大客戶的需求，如果無法對中國出售，第一代EUV光刻機和2納米EUV光刻機都將沒有客戶。第一代EUV光刻機在滿足臺積電、Intel和三星之后，如今就已面臨缺乏客戶的問題。

ASML眼見著美國態(tài)度的變化，它也在尋找新的支持，據悉它已計劃搬離荷蘭，有可能遷往法國，原因是歐洲三大強國分別是英國、法國和德國，ASML希望獲得法國的支持，從而為爭取中國市場獲得支持。

事實證明了中國市場對ASML來說無比重要，也是ASML光刻機事業(yè)的最后紅利，它認為光刻機行業(yè)基本上在2納米EUV光刻機之后已沒有可能研發(fā)更先進的光刻機了，如果能對中國市場出售EUV光刻機就能賺取最后一筆利潤，否則只會更早進入下坡路。